Közelebb került az önálló chipgyártáshoz Kína


Az SMEE DUV litográfiai berendezése nagy előrelépés, de nyugati mércével mérve még így is hatalmas a lemaradás.

Forrás: ITcafé - 7 napja Tovább a teljes cikkhez a ITcafé oldalára...

További hírek a ITcafé oldaláról

C

Telefon gyorskereső


▲ hirdetés  ▲ hirdetés

Olvasói vélemények


▲ hirdetés
 ▲ hirdetés